纳米级XYZ精度 / 原位测量 / 光栅测量
通过光学正向建模算法得到的仿真光学参数，与实际测量的光学参数进行比对；利用LM算法、库匹配、神经网络算法， 提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。
高精度
三维形貌测量重复性(XYZ) | ＜0.5nm |
三维形貌测量准度(XYZ) | ＜2% |
膜厚测量重复性 | 0.01nm |
膜厚测量范围 | 0.5um-20um |
折射率重复性 | 0.0005 |
光斑大小 | 150um |
光谱范围 | 245-1000nm |
可测CD尺寸 | ≥20nm，小线宽可定制 |
XYZ移动方式 | 电动 |
对焦方式 | 自动 |
实测（标准件在SEM和NM-300测量结果对比） 单位：nm
项目 | 标准件 | 扫描电镜切片测量 | NM衍射形貌测量 |
深度 | 201.9 | 195.4 | 194.2 |
上底 | 373.1 | 369.2 | 368.7 |
下底 | 429.8 | 425.2 | 421.4 |
两种模式，两种应用场景
实验阶段 （ 优化模式）
在实验阶段，建立其理论的形貌模型，
通过大量仿真的光学参数实时比对，提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。
量产阶段 （库匹配模式）
在量产阶段，已确定形貌的设计值，仅需调用数据库内的仿真光学参数，
提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。
库匹配时间根据计算机运算能力可达毫秒级别，加之光学数据采集，整体测量时间＜20s。
